Vad forskar du i?
Jag forskar i produktionen av nya material på nano-skala och modifiering av dem med hjälp av atomskiktsdeposition (Atomic Level Deposition, ALD). Jag kombinerar flera olika områden av kemiforskning i mitt arbete, så som kemisk syntes och yt-analys. Med hjälp av dessa söker jag efter nya lösningar och applikationer för tunnfilmer.
På vad inverkar din forskning och hur?
Utan tunnfilmer på nano-skala kunde vi inte tillverka moderna datorer, smarttelefoner eller solpaneler. Jag utför grundforskning i kemi, vilket ligger långt ifrån den färdiga produkten som konsumenterna använder. Vi behöver dock nya materialinnovationer för att kunna tillverka elektronikkomponenter med högre prestanda och finna mera energieffektiva lösningar.
Vad inspirerar dig särskilt mycket inom ditt fält just nu?
ALD-metoden är en finsk uppfinning med en historia på 50 år bakom sig. Dess betydelse växer år för år. I framtiden kommer applikationerna att kräva nya och ofta exotiska tunnfilmsmaterial. Att kemin fungerar är av största vikt när de framställs.
Det har blivit möjligt att förstå kemin för ALD i mera detalj med hjälp av moderna analysmetoder. Vi kan nu utreda ytreaktionerna på individuella molekylskikt mera detaljerat, och sammanlänka grundforskningen, materialvetenskap och industriella applikationer närmare än förr.
Platsselektiviteten hos ALD-ytreaktioner är en särskild utmaning. Vi vill utreda hur man kan kontrollera materialproduktion på endast vissa ytor på nano-skalan.